詳細(xì)摘要: 型號:M+-E150主要用途: 用于IC生產(chǎn)及元器件生產(chǎn)中晶片的濕法刻蝕、清洗工藝。其作用是去除晶片表面的有機物、顆粒、金屬雜質(zhì)、自然氧化層及石、塑料等附件器...
產(chǎn)品型號:M+100-E所在地:西安市更新時間:2024-08-19 在線留言PLC 工控機 嵌入式系統(tǒng) 人機界面 工業(yè)以太網(wǎng) 現(xiàn)場總線 變頻器 機器視覺 DCS PAC/PLMC SCADA 工業(yè)軟件 ICS信息安全 應(yīng)用方案 無線通訊